中文：射線形貌術；英文：X-ray topography的原理；中文：射線形貌術；英文：X-ray topography的定義；中文：射線形貌術；英文：X-ray topography是什么。
利用X射線在晶體完整區(qū)和缺陷區(qū)的衍射光束強度的變化及其規(guī)律，觀測晶體及器件表面和內部結構缺陷的一種測試技術。這是一種無損檢驗，其樣品制備簡單，實驗重復性好，能決定缺陷的性質。X射線形貌學主要有5種：反射形貌術、透射形貌術（包括截面形貌術、投影形貌術和限區(qū)形貌術）、雙晶形貌術（又分為透射和反射兩種）、異常（厚晶體）透射形貌術、同步輻射源X射線形貌術 （分白光和單色光）。