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DMD無(wú)掩模光刻機(jī)
DLP/DMD光刻照明光源
DLP光學(xué)引擎
ce）的全新無(wú)掩模光刻系統(tǒng)，因此SP-UV可以兼容所有標(biāo)準(zhǔn)的微電子光刻膠，包括微流體應(yīng)用中不可或缺的i-line光阻劑SU-8。這一特點(diǎn)為半導(dǎo)體加工領(lǐng)域的開(kāi)發(fā)人員，在光刻膠材料的選擇上提供了更加廣闊的空間。DMD無(wú)掩膜光刻機(jī)SP-UV的優(yōu)勢(shì)之一是對(duì)DMD光學(xué)投影技術(shù)的應(yīng)用。這一技術(shù)在提高直寫(xiě)精度和速度的同時(shí)，提供了四種不同的直寫(xiě)分辨率。搭配Microlight3D的“快速切換”物鏡系統(tǒng)，僅需2秒就能完成分辨率切換。Microlight3D首席執(zhí)行官Denis Barbier表示:“Microlight3D的SP-UV技術(shù)可以與更廣泛光刻膠材料相兼容。在為無(wú)掩模光刻的應(yīng)用開(kāi)拓了新的領(lǐng)域的同時(shí)，滿(mǎn) ...
圖示1、何為無(wú)掩模光刻？無(wú)掩膜光刻即不采用光刻掩模板的光刻技術(shù)。在傳統(tǒng)光刻過(guò)程中，需要采用光學(xué)照射掩模版的方式將圖案轉(zhuǎn)移到掩模版上；而在無(wú)掩模光刻中，對(duì)目標(biāo)圖案的轉(zhuǎn)印不需要掩模版，而是通過(guò)電子束或光學(xué)的方式直接在基片上制作出所需要的圖案，這種方式避免了傳統(tǒng)方式制作掩模版效率低、分辨率低、成本高的缺點(diǎn)。2、何為DMD無(wú)掩模光刻？DMD無(wú)掩模光刻是光學(xué)無(wú)掩模光刻技術(shù)的一種，該技術(shù)使用數(shù)字DMD代替?zhèn)鹘y(tǒng)的掩模，借助于DMD對(duì)常規(guī)掩膜予以取代而展開(kāi)光刻成像，借助DMD對(duì)光源展開(kāi)反射式調(diào)制，把涉及的虛擬數(shù)字掩膜移至硅晶圓基片，進(jìn)而進(jìn)行曝光。DMD無(wú)掩模光刻系統(tǒng)本質(zhì)上是一種高精度加工平臺(tái)，如下圖所示，主要 ...
D投影技術(shù)的無(wú)掩模光刻設(shè)備，可兼容多種電阻和基片。SMART PRINT UV可以生產(chǎn)任何微米分辨率的二維形狀，而不需要硬掩模。基于改進(jìn)后的標(biāo)準(zhǔn)投影技術(shù)，投影出具有微米分辨率的圖像。DMD無(wú)掩模光刻機(jī)最后便會(huì)在一整片晶圓上完成很多 IC 芯片，接下來(lái)只要將完成的方形 IC 芯片剪下，便可送到封裝廠做封裝。最后，對(duì)產(chǎn)生的芯片質(zhì)量檢測(cè)可利用該款產(chǎn)品進(jìn)行操作。脈寬可調(diào)納秒激光器（芯片缺陷檢測(cè)用）您可以通過(guò)我們的官方網(wǎng)站了解更多的產(chǎn)品信息，或直接來(lái)電咨詢(xún)4006-888-532。 ...
使用DMD的無(wú)掩模光刻的論文。利用DMD的生產(chǎn)系統(tǒng)已經(jīng)由多家原始設(shè)備制造商推出。 通常，這些工具選擇使用多個(gè)中到高分辨率DMD以實(shí)現(xiàn)高數(shù)據(jù)吞吐量，并在365-410nm范圍內(nèi)工作。典型工作條件是在DMD上的3-5W / cm2 照明，溫度保持在30°C以下。 基于這些條件，制造商已經(jīng)能夠?qū)MD系統(tǒng)穩(wěn)定運(yùn)行。設(shè)備在 UV-A 范圍內(nèi)的 3.4W/cm2 、25°C條件下始終表現(xiàn)出超過(guò) 3000 小時(shí)的運(yùn)行時(shí)間。生產(chǎn)合格的UV DMD中使用的標(biāo)準(zhǔn)UV窗口具有320-400nm的可用透射率區(qū)間。為了在低于此值的波長(zhǎng)下測(cè)試和操作設(shè)備，需要一個(gè)低于320nm的高透射率的特殊窗口。DMD技術(shù)概述DMD是 ...
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