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高性能低噪聲X射線相機
傳統(tǒng)磁光薄膜的特性為了在薄膜上獲得分離良好的磁性區(qū)域，在x射線光刻過程中使用掩膜，如圖1所示，然后通過離子束蝕刻去除薄膜的未保護部分。由于需要確保垂直磁化方向，因此需要進行MOKE測量以檢查薄膜的質(zhì)量。這種磁性表征是可能的，因為這些薄膜的磁化方向?qū)馄穹较蛴泻軓姷囊蕾囆?，并且薄膜與背景反射率的比例很高。其他互補的表征技術(shù)，如反射高能電子衍射，通過指示外延生長，提供了對薄膜光學質(zhì)量的進一步了解。x射線衍射研究表明材料是否具有晶體織構(gòu)，因為通常需要具有高度織構(gòu)且易于磁化軸垂直于薄膜的材料(圖2)。圖1圖2在這一點上，應該強調(diào)的是，傳統(tǒng)磁光薄膜的磁性是連續(xù)的，而其他磁性薄膜，如傳統(tǒng)磁性記錄磁帶中使 ...
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